문제
다음 내용이 모두 참이라고 할 때, 반드시 거짓인 것은?
- 1최근 개발된 시스템은 시간당 수천 개의 미세 입자를 분석해 부품의 상태와 남은 수명을 예측할 수 있다.
- 2플라즈마 세척은 이온화된 기체를 이용해 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하는 방식이다.
- 3기존의 플라즈마 세척 방법은 공정 중 오염이 발생한 위치를 실시간으로 찾을 수 있다.
- 4반도체 웨이퍼의 세정 공정에는 크게 세 가지 방식이 있으며 플라즈마 세척은 건식세정 방법이다.
- 5최근 개발된 시스템은 테스트용 부품, 포집 장치, 분석 센서로 구성되어 있다.
